ShunCheng New Materials Co., Ltd. ha logrado otro gran avance en el campo de la tecnología de clasificación fina de micropolvo de carburo de silicio. La patente de invención de la empresa titulada “Dispositivo y método de clasificación por flujo de aire para micropolvo de carburo de silicio” (n.º de patente: ZL 2024 1 0234567.8) ha sido autorizada oficialmente por la Administración Nacional de Propiedad Intelectual. Gracias al diseño innovador de la estructura de guía del flujo de aire en la cámara de clasificación, el ángulo de las palas de la rueda clasificadora y un sistema de entrada de aire secundario, la patente mejora significativamente la concentración del tamaño de las partículas y el rendimiento de la clasificación, especialmente para la producción en masa de micropolvo de SiC ultrafino con un D50 en el rango de 0,5-8 μm.
La clasificación tradicional del micropolvo de SiC adolece de la mezcla de partículas gruesas y finas, un bajo rendimiento y un elevado consumo energético. Tras dos años de investigación utilizando simulación de dinámica de fluidos computacional (CFD), el equipo de I+D de ShunCheng optimizó el campo de flujo interno del clasificador, aumentando la precisión de la clasificación en un 181 % y reduciendo el consumo de energía por unidad de producto en un 101 %. Esta tecnología se ha aplicado con éxito en múltiples líneas de producción de micropolvo, logrando una concentración del tamaño de partícula (D85/D50) de ≤1,4, lo que la sitúa a un nivel líder a escala internacional.
Hasta la fecha, ShunCheng cuenta con 23 patentes nacionales, entre las que se incluyen 8 patentes de invención y 15 patentes de modelo de utilidad, lo que le permite disponer de una completa protección de la propiedad intelectual que abarca el procesamiento, la trituración, la clasificación, la purificación y la modificación superficial de la materia prima de SiC. El responsable de propiedad intelectual afirmó que la empresa seguirá ampliando su cartera de patentes en torno al SiC de alta pureza (≥99,91 % TP3T) y al polvo de SiC esférico durante los próximos tres años, con el objetivo de presentar entre 3 y 5 nuevas solicitudes de patente al año.
A través de la innovación continua y la protección de la propiedad intelectual, ShunCheng pretende reforzar su ventaja competitiva en el mercado de materiales de SiC de alta gama y ofrecer a sus clientes de todo el mundo soluciones de productos más estables y eficientes.
